Da die kritischen Abmessungen von Halbleitervorrichtungen weiter abnehmen, nimmt ihre Empfindlichkeit zu. Moderne Halbleiterherstellungsanlagen müssen darauf achten, Halbleiter in einer vollständig inerten Umgebung zu halten und sie vor jeder möglichen Form von Korrosion oder chemischem Angriff zu schützen.
Siliziumkarbid ist dank seiner extremen chemischen Inertheit ein ideales Material für Halbleiteranwendungen. Zum Beispiel bietet Hexoloy® Siliziumkarbid von Saint-Gobain eine extrem hohe chemische Reinheit (>98 %) ohne freies Silizium sowie eine hervorragende Oxidationsbeständigkeit selbst bei hohen Temperaturen. Dies macht es ideal für Anwendungen im Handling und der Inspektion von Wafern, bei denen die Beseitigung von Verunreinigungen und die Verhinderung unerwünschter chemischer Reaktionen von entscheidender Bedeutung sind.